大批的订单，其他工厂的采购人员，天天堵在尼康的大门口等着交货。

不过，九十年代最大的光刻机巨头尼康，衰落也是很快的，这其中有政治上的纠纷，也有技术路线的选择错误。

在芯片领域里，有一个着名的摩尔定律，芯片的性能每隔18到24个月就得翻一倍，这样，芯片的制造技术也得不断地前进才行。

在现在这个时代，其实光刻机的技术还不是很难，毕竟阿斯麦的起家的时候，不过只有三十几个人的团队，甚至就连英特尔等不及尼康的光刻机，自己也可以做几台应急，不过就是把大批的零件买回来，拼拼凑凑，造个特殊的照相机。

尼康的牛逼之处，就是人家是产业链集合，所有的零件都能自己搞定。

但是，在进入九十年代，光刻机的生产商碰到了一个技术关卡：光刻机使用的光源是193纳米的，它就限制了光刻机的继续升级！

想要凋刻东西越精细，刀子就得越锋利，193纳米的激光已经不够细了，接下来该怎么办呢？

尼康作为科技巨头，想的办法也很简单，直接换用157纳米的f2激光，这样就能解决问题了。

而为了对抗尼康成立的euv llc联盟则押注更激进的极紫外技术，将光源切换成十几纳米的极紫外光，这样不仅仅能解决现有的问题，还能一直用到以后，刻十纳米以下的芯片制程都没问题。

但是，这两种技术都不容易，都面临着技术难关，这就是九十年代最出名的193纳米关卡！

凡是遇到难关的时候，总是有天才出现的，现在也不例外，一个名叫林本坚的鬼才工程师出现了。

当光线透过水之后，频率不变，但是波长会发生变化，这就是水的折射率，所以，只要在光刻机的光源和硅片之间加一层水，让原本的193纳米的激光发生一次折射，不就能大大地降低了吗？

简单计算就能知道，波长会降低到132纳米！

这样，不仅仅能降低了光刻机的波长，刻蚀更加精密的电路，而且，对机器的改动还最小！

以前的就叫做干刻法，现在可以叫做湿刻法了！

林本坚提出来了这项技术，兴致勃勃地跑出去推销，但是，全部都吃了闭门羹！

美国、德国、日本，一个个的光刻机巨头，面对着这个说法都是嗤之以鼻：在精密的机器中加入水，成为一个浸润环境，就不怕水漏了吗？短期来看，这个办法可能会成功，但是长期来看，根

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