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第五百六十四章 打破瓦森纳协定的封锁(第6节)

于迎来了好消息,秦总要投资搞光刻机了!

“我想知道,如果我们搞光刻机,能不能达到世界一流水平,以后我们自己就可以生产,哪怕被国外封锁都不怕?”秦涛也是单刀直入,毕竟他对这个行业不是特别熟悉。

“秦总,光刻机说起来很高大上,但是实际上,它主要由三部分组成。”徐端义介绍起来:“它需要全球顶级的光源,也就是专门的激光系统;还需要高精度的镜头,以及精密仪器制造技术。在这三个领域里,我们能解决最后一个,这是我们系的专长,但是,前两个系统就难了。”

阿斯麦在后世很牛,是世界上最强的光刻机巨头,但是,它也不过就是个总装厂,各种零件走的都是全球合作的道路,比如说镜头来自德国的蔡司,光源来自美国企业cymer。

“对啊,尤其是激光的光源,目前在全世界的光刻机生产厂的面前,都摆着193纳米激光光源的技术鸿沟,我们想要研制世界先进水平的光刻机,还得解决这个难题。”一旁的系主任开口说道。

虽然已经放弃了光刻机的研发,但是,众人还是关注这个行业的,秦总提出了这个想法之后,他们更是连夜收集了各种资料。

此时,他们必须要把各种困难都摆在眼前,告诉秦总这个行业有多难。

“你们听说过湿刻法吗?或者叫做浸润法?”秦涛提出了这条技术路线。

“秦总,这个方法并不是主流的,属于旁门左道,就算是解决了现在的193纳米光源的问题,也无法继续解决以后的问题,毕竟芯片制程需要不断的更新。”徐端义说道。

这也是几乎整个光刻机领域的工程师对林本坚的看法了,你这纯粹就是歪门邪道啊!

“但是,这种方式更有可能以小博大。”秦涛说道:“各位,不知道你们想过没有,就算是以后有了更先进的光源,但是照样会遇到制程问题,而这种方法还能继续使用啊!”

大家去快可以试试吧。】

就拿尼康孜孜不倦地钻研的157纳米的光源相比,如果再借助这种湿刻法,那光源一下子就降低到100纳米以下了啊!

“秦总,您认为这条路可行?”徐端义认真地问道。

“没错,我们先不用考虑后期的问题,我们首先要考虑的就是如何在短期内达到世界主流水平,我们已经不可能从国外获得先进的光刻机了,但是我们的芯片产业不能崩,我们的龙芯一旦无法继续发展下去,那很可能会被市场淘汰,我们不可能交给

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