把芯片印出来，可以理解为用光作为油墨，用硅作为白纸，这就是所谓的光刻机了。衡量光刻机性能的指标，是它所能刻录的硅线条的最小宽度，而这个最小宽度又是由光刻机所使用的光的波长决定的，显然，使用的光波长越短，能刻录的线宽就越窄。

人眼所能看到的光，按照波长从长到短，是红橙黄绿蓝靛紫，波长最长的是红光，最短的是紫光，更小的线宽意味着更低的能耗，以及在同等面积下，可以刻入更多的晶体管，于是尼坑和风车国的ASmL开始了比谁更短的竞赛，啊，不对，是比谁波长更短的竞赛。

从紫光到紫外光，再到dUV（deep UltraViolet，更深的紫)，以及最新的 EUV（Extreme UltraViolet，极深的紫），尼坑慢慢的掉队，现在只剩下ASmL一家独大了。

一台超过四亿美刀的EUV光刻机，是整个华国都垂涎三尺的宝贝，如果有可能，王一男真想去弄一台回来，不过那玩意目标太大，也太烧钱，而且耗电量惊人，一台设备需要的用电量就相当于一个百万人口的小城市了。

回到帝都之后，王一男先找了孙伟他们确定电路设计的进度，电路设计分成两个部分，第一部分是逻辑设计，也就是使用VhdL（Very high speed integrated circuithardware description Language 超高速集成电路硬件描述语言），将基本的逻辑功能描述出来，这种设计是跟具体的工艺和芯片无关的。

这部分工作进行的很顺利，孙伟他们在哥德尔系统的帮助下，已经三易其稿，也经过模拟测试没有什么问题了。

第二部分实际的刻录模板设计就比较麻烦，因为涉及到 pdK（processor design Kit芯片设计工具包），这是具体晶圆厂自己使用的开发工具包，跟使用的工艺包括芯片的具体适用范围密切相关。目前孙伟他们只能搞到中芯的pdK，也就是 0.5微米的工艺。

要想用上牙膏厂的这台最新的光刻机，首先，必须弄到配套的pdK才行，看来，布拉格之行已经迫在眉睫了。

陈子豪两天前也从老家回来，加入了容与公司，看到哥德尔系统一眼之后，陈子豪就再也不肯离开了，他在公司打了个地铺，整天就用哥德尔系统分析各种后门和漏洞，正好最近公司没什么特别的业务，哥德尔系统的计算能力比较空闲。”早有这哥们帮忙，当年我怎么可能被米国那帮白痴发现呢“，陈子豪对王一男说，”老板，

本章未完，请点击"下一页"继续阅读！ 第3页 / 共5页