今强化出来的图纸，准备带领研究所一步步的突破，从45纳米开始发展。

研究本身就是一个消耗资金的事情，好在丁杰有技术图纸，不会去白白的浪费资金，只要按照图纸中的技术，不断的创新突破即可。

凡事也不能着急，预计在光刻机这个领域，有个一年半载，就会有重大的突破，两、三年的时间，就能追上国际的顶尖水准。

他也给了机械人才要求，要抓紧时间带领光刻机研发团队有新的突破，需要什么样的设备，就直接购买，买不到的再用别的方式解决。